半导体光刻胶反应釜防爆模温机案例

案例介绍

光刻胶是一种高分子化合物，主要用于微电子制造中的光刻工艺在微电子制造中，光刻胶的应用非常广泛，可以用来制造芯片、光学器件、MEMS(微机电系统) 等微型器件。此案例客户是半导体材料行业。

案例现场

半导体光刻胶反应釜防爆模温机案例

选用设备

产品名称：防爆模温机

机器型号：EUOCBF

设备功率：6KW

功能配置：整机隔离式防爆 EXdII BT4，PLC编程控制，带冷却。

案例特点

反应釜控温光刻胶，使用温度需要150度，反应期间会有放热，所以需要增加冷却功能，设计1 平方( 板式换热器 )。